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薄膜的化學(xué)制備工藝-陽(yáng)極氧化法

   陽(yáng)極氧化法是將某些金屬或合金(如鋁、祖、欽、鋇等),在相應(yīng)的電解液中作陽(yáng)極,用石墨或金屬本身作陰極,加上一定的直流電壓時(shí),由于電化學(xué)反應(yīng)會(huì)在這些金屬的表面上形成氧化物薄膜,這個(gè)過(guò)程稱為陽(yáng)極級(jí)化,其制膜方法稱為陽(yáng)極氧化法。它和其他的電解過(guò)程一樣,也遵循法拉第定律,即將一定的電量嚴(yán)格定量地轉(zhuǎn)化為金屬的氧化物。然而,在陽(yáng)極氧化過(guò)程中,會(huì)有一定數(shù)最的氧化物又溶解在電解液中,所以金屬表面上的氧化膜的有效質(zhì)量要比理論值偏低一些。也就是說(shuō),陽(yáng)極氧化過(guò)程存在著金屬溶解和氧化膜形成兩個(gè)相反的過(guò)程,而成膜則是兩者的綜合結(jié)果。因此氧化膜的形成是一種典型的不均勻反應(yīng),在鍍膜中存在以下反應(yīng):

   利用以上同時(shí)存在的反應(yīng)生成陽(yáng)極氧化物膜。在膜生成的初期,同時(shí)存在膜生成反應(yīng)和金屬溶解反應(yīng)。溶解反應(yīng)產(chǎn)生水合金屬離子,生成由氫氧化合物或氧化物組成的膠狀沉淀氧化物。氧化物覆蓋表面后,金屬活化溶解將停止,持續(xù)氧化反應(yīng)是金屬離子和電子穿過(guò)絕緣性金屬氧化物在膜表面繼續(xù)形成氧化物。為了維持離子的移動(dòng)而保證氧化物薄膜的生長(zhǎng),需要外加一定的電場(chǎng)。陽(yáng)極氧化膜的成分及其結(jié)構(gòu)與電解液的類(lèi)型和濃度,以及工藝參數(shù)等多種因素有關(guān)。

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