【技術(shù)文章】薄膜制備環(huán)境-超凈工作間標準與級別 2014-03-10

在潔凈的環(huán)境下制備薄膜，是保證薄膜質(zhì)量的關(guān)鍵技術(shù)之一。凈化間的定義最初是由美國開發(fā)的聯(lián)邦標準209版(Federal Standard 209)。后來發(fā)展為以單位體積中存在一定直徑以上的顆粒數(shù)為基礎的凈化間級別的定義。凈化間級別的米制版如表4一18所列。圖4...

【技術(shù)文章】薄膜制備的環(huán)境-塵埃與針孔 2014-03-05

【技術(shù)文章】薄膜圖形加工的主要方法 2014-02-28

在基板表面上形成所要求的薄膜圖形的方法大致有以下三種: (1)用絲網(wǎng)印制術(shù)印制或者用感光樹脂(光刻膠)在基板表面上形成負圖像，然后采用真空蒸鍍、濺射、CVD等方法進行全表面鍍膜，接著把基板浸泡在溶解負像物質(zhì)的溶劑中，這樣在把形成負像物質(zhì)泡脹溶解的同時，...

【技術(shù)文章】什么是薄膜-陶瓷基片 2014-02-25

氧化鋁和鎂橄欖石等絕緣性陶瓷，即使在高溫條件下對高頻電力也具有優(yōu)異的絕緣電阻、耐壓和介電損耗等性能。陶瓷絕緣材料的主要用途見表4一5，其性能見表4一6。 陶瓷性能受到下面許多因素影響:主要成分的晶體類型，非主要成分組成，雜質(zhì)，玻璃質(zhì)中間物，氣孔數(shù)最和分...

【技術(shù)文章】玻璃基片的性質(zhì) 2014-02-20

玻璃是一種透明的具有平滑表面的穩(wěn)定性材料，可以在小于5000溫度下使用。玻璃的熱性質(zhì)和化學性質(zhì)隨其成分不同而有明顯變化。如透明石英玻璃，其雜質(zhì)總含量小于l00ppm，在0. 18拜 m-45m一波長范圍內(nèi)，其為透明狀態(tài)，在20＇C~ 1000C溫度范圍內(nèi)，...

【技術(shù)文章】薄膜制備中基片的選擇 2014-02-12

在薄膜的制備過程中，除了薄膜沉積技術(shù)外，為了獲得性能良好的薄膜及薄膜器件，還有不少特殊的技術(shù)需要掌握并熟練運用。 由于薄膜的厚度很小，一般都不能支持本體，而必須為它提供一個載體。理想的載體或“基片”除了要有足夠的附著力以支持薄膜外，還不應與薄膜相互作用...

【技術(shù)文章】超薄有機薄膜的LB制備技術(shù)的概述 2014-02-08

LB(Langmuir- Blodgett)薄膜技術(shù)是一種精確控制薄膜厚度和分子結(jié)構(gòu)的制膜技術(shù)。這種技術(shù)是20世紀30年代由美國科學家I. Langmuir及其學生K. Blodgett建立的一種單分子膜制備技術(shù)，即在水一氣界面上將不溶解的分子加以緊密有序排...

【技術(shù)文章】水熱電化學 2014-01-15

由于單獨的水熱法需要較高的溫度和壓力;而單獨的電化學工藝由于電解槽不能很好地密封，某些類型的材料特別是鈣鐵礦型的介電陶瓷薄膜的制備尚有很大的困難，而且其電化學成膜的速率較低。因此，把水熱法和電化學法有機結(jié)合起來，形成水熱電化學方法是很有潛力的.目前，該方法已...

【技術(shù)文章】軟溶液制備技術(shù)的基本原理 2014-01-10

為了既能大量地且對環(huán)境也友好地開發(fā)先進的功能材料，又能實現(xiàn)社會經(jīng)濟的可持續(xù)發(fā)展，不少研究者提出了新的工藝技術(shù)概念和選擇新的工藝技術(shù)流程。日本東京工業(yè)大學的吉村昌弘(Masahiro Yoshimura)教授在多年研究陶瓷薄膜制備工藝技術(shù)的基礎上于20世紀末提...

【技術(shù)文章】噴霧熱分解法的改進技術(shù) 2014-01-06

為了改善SP法所制備薄膜的表面形貌和性能，主要的研究工作集中在如下三方面:一是改進氣體的霧化技術(shù)，如脈沖間歇噴霧以及納米射流;二是對源物質(zhì)和溶劑的選擇，改進氣體的配制;三是采用新的加熱沉積手段，如采用微波加熱、熱等離子體離化、冷等離子體氣氛沉積等。 等...